第401章 光刻之盟（第2页）

温彼得开出了早已准备好的价码，“作为交换，我们需要共享实验室在硅光子架构和光互连方面的所有研究成果。”

“一亿美金？”

汪韬冷笑了一声，那笑声里带着三分轻蔑。

他将一台笔记本电脑推到桌子中央，屏幕上是一张极为复杂、宛如迷宫般的光路图。

“温彼得先生，您是行家。

您应该看得出来，这是什么。”

马丁·范登布林克，那位一直沉默寡言的技术总监，凑近屏幕看了几眼。

下一秒，他的瞳孔瞬间收缩，呼吸都变得急促起来。

“这是……片上光路波导的拓扑结构？你们解决了光子在微米尺度下的损耗问题？！”

“解决了。”

汪韬面无表情地合上电脑，“利用我们自研的拓扑光子晶体材料，损耗降低了90%。

这意味着，光子计算不再是理论，而是可以工程化的现实。”

他看着马丁，一字一句地说道：“这个技术的价值，是一亿美金的后面，再加两个零。”

马丁看向温彼得，微微点了点头。

这个眼神确认了一个事实：中国人在光子芯片领域，真的走到了世界前列。

“那你们想要什么？”

温彼得深吸一口气，不再试探，“既然euv卖不了，我还能给你们什么？”

林远身体前倾，双手交叉放在桌上，目光如炬。

“我要的不是机器。”

“我要的是——光的算法。”

他抛出了一个让所有人都意想不到的概念：“计算光刻。”

温彼得和马丁对视一眼，都看到了对方眼中的震惊。

“温彼得先生，”

林远打开了自己的ppt，“我们都知道，光刻机的物理精度是有极限的。

但是，决定芯片最终良率的，不仅仅是镜头和光源，还有掩膜版的图形设计。”

“光线在穿过掩膜版时，会发生衍射和干涉，导致投射到硅片上的图形发生畸变。

本来是直角的电路，印出来变成了圆角；本来是分开的线条，印出来粘连在了一起。”

林远顿了顿，继续说道，“为了修正这种畸变，我们需要光学邻近效应修正技术，也就是opc。”

“通过极其复杂的数学算法，反向计算出掩膜版上应该有的形状。

这需要海量的算力，和对光刻机光源特性的绝对了解。”

林远看着马丁，语气变得极其郑重：“我们有昆吾平台，我们有燕山超算的e级算力，我们有盘古ai大模型。

但是，我们没有asml光刻机的光源模型数据。”

“你们的光源，波长漂移、光强分布、相干性等各项参数是保密的。

没有这些数据，我们的opc算法就是瞎子。”

“我的提议是：成立启明-asml联合计算光刻实验室。”

“我们出算力、ai算法以及昆吾eda平台中的opc引擎；你们出光源模型数据、透镜像差数据以及光刻胶的光化学反应模型数据。”

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