第641章 保密通信计算机（第2页）

李枭也不奢望其它，能在1970年代以前，研究出投影式光刻机就可以，这也就意味着追上了国际水平，不至于被落下。

“小枭你什么时候回来的？”

，看到李枭，罗教授很高兴道。

“昨天刚到，罗教授，光刻机研究的怎么样了？”

，在罗教授的办公室中，坐下后李枭问道。

“不太理想，中间遇上了问题，一直没找到解决的办法。”

，提到正事，罗教授也是皱起眉道。

闻言李枭心里也跟着沉了沉，能让罗教授这般犯难的，绝不是小麻烦，也就道：“都有什么问题？”

。

“那问题就太多了，我都有些头痛。”

，罗教授叹了口气，伸手从抽屉里拿出两片透明的石英掩模，递给了李枭。

李枭接过去看了看，就看到上面那许多细密的划痕，罗教授也是这个时候开口道：“你先看看这个，这是上周刚做的掩模，才用了三次，表面就划成这样，现在用的掩模基板太薄，压的时候只要稍微没控制好，要么掩模裂了，要么晶圆表面被刮出印子，后续刻蚀出来的电路全是断口，良率连三成也达不到。”

。

“有没有换厚一点的试试。”

，李枭也是看着石英掩模，想了想道。

。”

。

说完罗教授又叹了口气道：“这还只是第一个问题，还有就是对准的事儿，这更让人闹心，我们只能靠人眼通过显微镜手动对准，但没有人能够一天全部精神力集中，

稍一分心套刻精度增大，有的偏差直接能飙到3微米，这也没有办法，人的精力有限，不可能每时每刻都保证高精度操作。

而最让人头痛的还是咱们的环境问题，不要说外面，就说实验室内，现在我们都无法保证千级洁净，空气中的灰尘落到掩模上，曝光后就是一个个黑点，有时候一批晶圆里，一半都因为灰尘报废了，

我们也想过办法，想着在操作台上加了个简易防尘罩，但结果通风，光刻胶固化速度变慢，曝光时间得延长两倍，效率低得吓人。”

。

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