第641章 保密通信计算机（第3页）

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听着罗教授讲的这些，这一讲就是八九个问题，李枭也是皱起了眉，这些问题之前他也查过，但很多都没有太好的解决办法。

象是环境控制的问题，接触式光刻机要求的环境，在这个年代来讲，是比较苛刻的。

因为光刻的过程对于振动、温度波动甚至空气洁净度都非常敏感，这也是为什么要求在千级洁净的环境中制造。

。

这就需要通过控制空气中微粒、温度、湿度、压力等参数，来满足特定洁净须求。

而这种技术国内现在根本就制造不出来，至少也要等到几年后，才创建起千级洁净室，来进行军工、电子等的研究。

这个目前来讲没有太好的解决办法，只能够尽力去克服。

还有机械对准的问题也是一样，必须要精确控制掩模版与晶圆的并行度和接触压力，这样才能够让曝光局域内接触均匀，导致图形失真或局部不清淅。

否则要是压力不均或存在微小倾斜的话，都会导致出现问题。

但现在机械加工精度、自动化控制水平本来就有限，本就难以进行高精度的对准和均匀的接触压力。

这个也没有太好的解决办法，毕竟工业水平就摆在这里，想要工业水平提升，那更是难上加难。

只能依靠人员的经验和手工调试。

可以说这一次光刻机的研究，直接挑战了精密机械加工、光学设计与制造、精密化学、自动控制以及超净环境构建等多个领域。

这些领域和机械设计不一样，机械设计的话，只要设计出来，加工精度足够，在不涉及到电子元器件的情况下，就能够给制造出来。

还有象是光刻胶技术，光刻胶的配制、曝光伶敏度均匀涂覆，以及显影效果，这些都直接关系到图形转移的质量，但国内现在对于这一项技术，还处于起步阶段。

是靠着量大的实验慢慢摸索，堆出来的成果，这些也是需要慢慢的研究，他也插不上手。

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