第436章 吕尧国运求订阅（第4页）

因为国内半导体产业的薄弱，所以梁博士在这一关的攻克时间上用了比较久的时间，但自从去年传出商贸制裁的风向后，拥有国际顶尖水平的微光国际就受到了极大的支持，国内半导体行业顶尖的研究机构，顶尖大学全都在官家的促进下，添加到微光国际的尖端产品开发中。

在这个过程里，梁博士再次提出一个天才，但也极其阴损的构想。

他们目前的工艺攻克，不仅要聚焦在7n上，同时也要聚焦在未来的5n上。

而比5n尺度单位更小的3n芯片其实可以暂时不做考虑，因为到那个级别，攻克技术难关的投入和短期内带来的收益是不成正比的，甚至其中的很多技术难点都是跟当前技术难点不同的。

所以，梁博士针对将来技术的主要研发方向，就集中在7n，5n的开发上。

因为国内的euv光刻机太少太少了，就只有坑来的那一台，想要靠这一台完成量产，那不现实。

但国内duv光刻机的生产技术其实已经趋近成熟了，所以梁博士提出了非常天才的设想一那就是“多重曝光技术”

！

这个技术设想是将一个非常密集的电路层，分解成多个密度较低的图案，然后用现有的duv光刻机分多次进行曝光和刻蚀，最终将这些图案组合起来，形成最终所需的超密集电路。

这种技术主要是自对准双重图案化，和更复杂的自对准四重图案化。

的基础上再缩一半以上。

这个设想已经经过梁博士的仔细推演，也得到了国内学术界的认可了。

接下来，他们要做的就是把这其中的复杂工艺进行集成突破，提升整体的工艺水平和良品率。

而这项“多重曝光技术”

的美妙之处就在于他不仅有利于帮助国内攻克现有的7n制程工艺，还有利于将来攻克5n制程工艺。

所以梁博士制定下了三步走的计划。

其中的第一步，自然是他率领五千人的工程师团队，针对“多重曝光技术”

进行攻关，努力让国内在未来三年，甚至两年内！

突破7n芯片的量产。

第二步，就是国内光刻机生产厂商要尽快的！

尽可能的！

搞定euv光刻机的生产制造o

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