第752章 探寻遭遇的机关陷阱（第3页）

外面是下沉平台，地面有裂缝，每隔七秒喷出绿色液体，落地就冒泡沸腾，蒸汽遮住视线。

空气中酸雾弥漫，吸一口肺都疼。

天花板中央有个雷达，慢慢转动，扫过空间时金属会微微震动。

“不能碰那液体。”

雷煌放下凯莉斯，声音低，“高温强酸。”

他伸手探向墙边管线，左臂插入接口，能量流向显现：地下三层，主干分支，经冷却层送到终端。

喷口周期和排空时间一致，误差不到0.3秒——这是唯一安全的时间。

“喷七秒，停三秒。”

他说，“停的时候可以走。”

艾德琳靠在墙角，撕下一块装甲碎片扔出去。

金属响动，雷达立刻转向那边，扫描加快。

她嘴角一扬：“我引它。”

雷煌点头，抱起凯莉斯，拉上艾德琳。

三人趴下，在一次喷射结束的瞬间冲进导流槽低洼处，爬行前进。

热浪扑脸，蒸汽烫皮肤，装甲表面迅速变色。

艾德琳的项圈越来越烫，她用手肘爬，指甲在金属上刮出印子，指头已经磨破，一路留血。

“还有十米。”

雷煌说，像机器报数。

凯莉斯趴在他肩上，手指摸着骨翼裂缝。

她闭眼，再次连上雷煌的意识。

记忆浮现——上次她进核心区的画面：通风口，第三块地砖下面，盖板松动；通道尽头是环形平台，中间一根大导管，缠着发光锁链，蓝光一闪一跳。

“右边。”

她声音很弱，“第三块砖，下面是入口。”

雷煌抬头，锁定位置。

雷达马上要扫回来，只剩一次机会。

“等下次喷完。”

他说，“三秒内行动。”

艾德琳点头，指尖聚起最后一点灵能。

她的装甲多处断裂，呼吸沉重，但眼神没变。

喷口关闭，导流槽排空。

雷达转开。

“现在！”

雷煌冲出，扛着两人奔向目标地砖。

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