第364章 全球领先 新一代光刻机

“徐总”

徐华盛来到一个实验室内，看到徐华盛到来，姜汉文立刻笑了起来。

“姜主任”

徐华盛点点头，目光却落在实验室墙壁上挂着的一个巨大的又复杂无比的设计图上了。

看着徐华盛的目光，姜汉文笑了起来。

“徐总，这就是我们华光电的第二款光刻机的设计图纸。

目前整个设计工作己经接近尾声，其中的很多配套技术也己经突破了”

姜汉文开始给徐华盛讲解这个设计图。

光刻机，姜汉文现在在华光电的主要项目就是研发光刻机。

当第一代光刻机量产之后，姜汉文就己经展开第二代光刻机的研究了。

经过这么长时间，姜汉文他们终于完成了第二代光刻机的设计工作，相关的配套技术也己经差不多突破了。

相对于华光电的第一代光刻机，第二代光刻机的更为先进，曝光精度更高。

“徐总，这款光刻机，曝光光源为96纳米。

如果采用二次曝光工艺，可以制作48纳米的芯片”

姜汉文最后介绍道。

徐华盛点点头，这个技术己经很厉害了。

如此的曝光精度，领先国外差不多两代了。

“大概什么时候能量产？”

徐华盛首接问道。

“如果一切顺利的话，需要两年时间。

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