第325章 神迹光刻胶震全球ASML连夜求见宇神 先排队

京都国际会议中心，发布厅内，死寂一片。

所有人的目光，都凝固在主席台那块巨大的LEd屏幕上。

屏幕中央，那个布满了复杂苯环和化学键的分子结构式，以及那行醒目的大字——【神迹（miracle）-1号——次世代金属氧化物EUV光刻胶】，正无声地宣告着一场即将到来的科技海啸。

“不可能！”

一个来自《华尔街日报》的科技记者，终于打破了沉默，他的声音带着一丝难以置信的颤抖，几乎是吼出来的。

他身旁，来自路透社、美联社的同行们，也纷纷从座位上弹起，脸上写满了震惊、骇然，以及一种深深的恐惧。

他们都是半导体行业的资深记者，深知EUV光刻胶对芯片制造的重要性。

这玩意儿，是真正卡住全球半导体产业脖子的“咽喉”

技术。

分辨率、灵敏度、蚀刻选择性，这三个参数，每一个都足以决定一款光刻胶的生死，更何况是EUV级别的。

屏幕上，那几个被放大显示的参数，每一个都像是一记重锤，狠狠地敲击在他们的心头。

【分辨率：优于0.1nm（理论极限）】

【灵敏度：5mJcm2（全球最高）】

【蚀刻选择性：1:10（全球最高）】

这些数字，远超目前市场上任何一款EUV光刻胶的性能指标。

0.1纳米的分辨率，意味着什么？意味着理论上可以制造出比5纳米更小，甚至达到原子级别的芯片！

5毫焦耳每平方厘米的灵敏度，更是将日本信越化学引以为傲的10毫焦耳每平方厘米甩出了好几条街，直接将EUV光刻机的生产效率提升了一个数量级！

而1:10的蚀刻选择性，则完美解决了刻蚀过程中对底层材料的损伤问题。

这根本不是“技术突破”

，这是“降维打击”

！

“这……这是真的吗？！”

一个记者失态地喊道，他的声音因激动而变得有些尖锐。

陈正宇看着台下记者们从疑惑、不屑到震惊、狂热的表情变化，嘴角微微上扬。

这就是他要的效果。

他清了清嗓子，声音不大，却清晰地传入每一个人的耳中。

“各位朋友，请安静。”

他的话语，带着一种不容置喙的威严，让原本喧嚣的发布厅，瞬间再次陷入了死寂。

“我知道，大家可能对屏幕上的数据感到难以置信。”

陈正宇的目光扫过全场，带着一丝玩味，“毕竟，在过去几十年里，EUV光刻胶技术，一直被少数几家公司所垄断，甚至被某些国家，当成了遏制他国科技发展的工具。”

他顿了顿，语气变得有些冷冽：“就在昨天，九州微电子还收到消息，ASmL公司，在某些国家势力的干预下，单方面撕毁了与我们签订的采购合同，并联合美国商务部，对我们实施了全面的技术禁运。”

此言一出，全场哗然。

记者们面面相觑，脸上写满了震惊。

虽然他们隐约知道有这回事，但从陈正宇口中证实，还是让他们感到不可思议。

这简直是赤裸裸的商业霸凌！

“他们以为，卡住了我们的脖子，我们就无法发展。”

陈正宇的目光变得锐利起来，如同出鞘的利剑，“他们以为，没有了他们的设备和原材料，我们就会停滞不前，甚至崩溃。”

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