第641章 保密通信计算机

集成电路的研究，也并没有出现太大问题。

毕竟已经有了规划，按照规划往下走，一步步进行研究就可以，只不过光刻机的研究并不是那么顺利。

光刻机的研究已经定下了基调。

要研究接触式光刻机，除了触式光刻机外，在这年代还有接近式光刻机。

接触式光刻机它的优点就是结构相对简单，成本较低，并且因为掩模版和硅片紧密接触，所以光的衍射效应较小，这样就能得到相对较高的分辨率。

但也有缺点。

那就是掩模版与硅片表面的光刻胶会有直接接触，所以这就容易导致相互污染和磨损，让掩模版使用寿命大幅减少，必须要频繁更换。

接近式光刻机就不一样了。

它的研究出来的原因，就是因为解决接触式光刻机掩模版易损坏的问题，所以才有了接近式光刻机。

这样就能够提高掩模版的使用寿命，以及良品率。

但也有缺点，那就是容易导致系统的分辨率下降，不如接近式光刻机接触式光刻机。

可以说这两种光刻机，都是这个年代的主流，不过相比起来还是接触式光刻机更容易制造。

。

而象是后世的投影式光刻机、扫描投影式光刻机、步进重复式光刻机、步进扫描式光刻机、浸没式光刻机、极紫外光刻机。

这些虽然更好用，但在这年代根本就制造不出来。

先不说后面几款光刻机，就算是投影式光刻机、扫描投影式光刻机，这两款计算机，都要等到70年代初才会被研究出来。

并且研究出来的难度，比起接触式光刻机难度不止增加了一倍。

本章未完，点击下一页继续阅读