第297章 让大漂亮知道什么叫造不如买

原子层光刻，是光刻技术的终极形态。

它可以完全摆脱光学，或电子束的物理限制，在理论上，没有最小制程瓶颈。

而且，其对材料的利用率，接近100。

技术如此先进，研发难度自然也是最大的。

先是原子束的操控问题，不管强度、精度，还是稳定性，当前的技术水平都无法达标。

接着是激光方面，与穹辰计划追求高功率不一样，原子层光刻机的激光技术，更注重稳定性，以及激光与原子相互作用的精确控制。

最后，还有掩膜材料、光刻工艺、原子与表面相互作用的精确控制等方面，都存在技术难关。

就算把这些技术问题，都给解决了，研发和制造难度依然巨大。

因为，原子层光刻需要在高真空等特殊环境下进行，对设备的精度和稳定性要求极高。

设备上的各个部件，如原子源、激光系统、真空系统、原子光学元件等，都需要具备高精度的制造和装配工艺。

因此，江晟对这个项目抱有足够的耐心，并不急于求成。

但作为项目负责人的臧教授，却背负着巨大压力。

当初，原子层光刻机项目，与纳米压印同时立项。

如今，纳米压印光刻机，已经量产两年多，连使用其生产的芯片都卖了快两年。

可原子层光刻机，却始终悄无声息。

直到此时，项目取得重大突破，臧教授才兴冲冲地给江晟打电话报喜：

“这一次，我们取得突破的关键性技术，是对原子束的操控。

基于热蒸发技术和喷射法，我们摸索出了一套，新的原子束产生方法，在束流强度和稳定性上，都有很大提升。

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