第631章 盛大发布

四月的鹏城，春意盎然。

风华半导体研究院新建的发布大厅里，人头攒动。

来自全国各地的媒体记者、行业专家、政府官员、合作伙伴，把能容纳三百人的大厅挤得水泄不通。

这是“风鹏计划”

原理样机的首次公开亮相。

舞台中央，被红色绸布覆盖的样机静静矗立，像一座等待揭幕的纪念碑。

台下，摄像机、照相机林立，闪光灯此起彼伏。

韩风站在后台，透过幕布的缝隙看着台下黑压压的人群。

他能听到自己的心跳声，快而有力。

今天，他们将向全世界展示中国人自己的euv原理样机。

这是几个月来团队心血的结晶，也是对国家支持的交代。

“紧张吗？”

张建国走到他身边，轻声问道。

“有点。”

韩风坦诚地说，“毕竟，这是第一次公开亮相。

外界会有期待，也会有质疑。”

李振华教授整理了一下领带：“技术数据我们都复核了三遍，样机也连续运行了七十二小时，稳定性没问题。

今天只要正常演示，就能证明我们的实力。”

“关键是光刻演示环节。”

赵工补充道，“那是euv的核心功能。

我们准备了三种不同线宽的测试图案，从28纳米到7纳米，逐级展示。”

韩风点点头。

这三个线宽，代表着三个技术台阶。

28纳米是当前国内最先进的水平，14纳米是国际主流，7纳米则是前沿。

如果他们能在原理样机上实现7纳米的光刻，就意味着技术上已经达到了世界先进水平。

但风险也在这里。

如果演示过程中出现任何问题——图形失真、线条断裂、对位不准——都会被无限放大。

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