第416章 分子幽灵

美国华盛顿，国际贸易委员会听证大厅。

虽然人未到场，但林远的代表律师团，由高翔牵头，联合美国顶级律所正面临着前所未有的压力。

原告席上，坐着信越化学和JSR组成的日本光刻胶联盟代表。

他们的首席律师，是有着专利屠夫之称的罗伯特·库恩。

库恩将一张巨大的分子结构图投影在屏幕上。

“法官阁下，这是我方拥有的第US-9，876号基础专利。”

他用激光笔圈出了分子链上一个特定的挂件，金刚烷保护基团。

“这是ArF浸没式光刻胶的灵魂。

它在曝光前保护树脂不溶于碱，曝光后在酸催化下脱落，使树脂变得可溶。”

“这是化学增幅反应的物理基础。”

“被告江南之芯墨子材料的产品，经过我们要谱分析检测，其核心树脂结构中，同样包含了金刚烷衍生物。”

“根据等同原则，即便他们做了一些微小的侧链修饰，其技术本质与我方专利完全一致。”

“这是赤裸裸的侵权。”

“我们请求Itc发布普遍排除令，禁止所有含有该结构的光刻胶，以及使用该光刻胶生产的芯片，即启明芯片，进入美国市场。”

形势危急。

金刚烷结构，确实是目前行业的主流。

绕不开，躲不掉。

江州，江南之芯集团，地下四层，盘古实验室。

这里没有法庭的唇枪舌剑，只有服务器风扇的轰鸣。

林远看着屏幕上那个被日本人申请了专利的金刚烷分子式，面色冷峻。

“高翔那边传回消息，如果我们不能证明我们的化学结构有实质性创新，或者证明对方的专利无效，败诉率超过90%。”

“不仅如此，”

刘华美补充道，“日本人在过去二十年里，围绕这个结构申请了超过5000项外围专利，形成了一张密不透风的专利网。”

“这就是所谓的专利丛林。”

“只要你走进这片林子，无论往哪个方向走，都会踩到地雷。”

“那就不要进林子。”

林远转过身，看向身后的技术团队汪韬、李振声、汉斯、赵博士。

“汪总，启动盘古分子大模型。”

林远下达了指令。

“我们的目标不是去修饰金刚烷，那是死路。”

“我们要寻找一种全新的，在自然界中从未存在过，但在数学上成立的异构保护基团。”

“定义目标函数酸敏感性必须在193nm紫外光激发的酸催化下，发生极其剧烈的脱保护反应（解离能＜20kcalmol）。

抗蚀刻性在等离子体刻蚀中，必须坚硬如铁（碳氢比ch＞1）。”

“透光率在193nm波段下，必须高度透明。

最关键的分子结构必须与日本人的专利完全不同！”

“启动生成式AI”

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